アルミナ溶射材（Al2O3, Y2O3）、グレーアルミナ溶射材（Al2O3TiO2）を使用した溶射を行います。
処理基板の温度制御性能の向上の効果が考えられます。
半導体製造装置
溶射.com｜溶射60年の実績。高速フレーム溶射（HVOF)、プラズマ溶射、ガスフレーム溶射、アーク溶射等に対応。
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処理基板の温度制御性能の向上の効果が考えられます。