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高速フレーム溶射(HVOF)

セラミック溶射皮膜より、ポーラスが少ない溶射皮膜材料はありますか?

 

はい、あります。

高速フレーム溶射で溶射することによって、ポーラスがゼロに近くなります。

高速フレーム溶射とは?

溶射飛行粒子の高速化により強い衝突力を実現し、緻密で密着性の高い溶射皮膜を得るために開発された溶射法で、酸素-プロピレン、酸素-水素、酸素-ケロシン、空気-ケロシンなどにより得られた高温の燃焼ガスを細長いノズル中で絞ることで高速流を作る。溶射材料粉末はノズル中で溶融されると同時に高速ガス流で加速され、音速をはるかに超える高速で基材に衝突し成膜される。高速フレーム溶射で得られる皮膜は、同一の溶射材料を用いた他の溶射皮膜と比較して高密度、高付着力、高硬度となる。WC系サーメット材料を用いた耐摩耗溶射に広く利用されている。

 

◆高速フレーム溶射(HVOF)とは

溶射銃の燃焼エネルギーを高圧にすることにより、溶射銃のフレーム内に超音速の噴流をつくり、溶射材料を高い温度で溶かしかつ高速で基材に激突させることにより皮膜を形成する溶射方法です。

高速フレーム溶射(HVOF)

◆高速フレーム溶射(HVOF)の特徴

・Hv1000以上の高硬度、高密度被膜形成が可能です。
・耐摩耗性に優れた被膜形成が可能です。
・耐食性優れた被膜形成が可能です。
・膜厚の指定は、幅広く対応可能です。
・気孔、酸化物の非常に少ない良質な被膜形成(気孔率の低減)が可能です。
・均一な被膜形成が可能です。
・マスキング処理を施すことにより、部分的な被膜形成が可能です。
・基材の大きさにとらわれない表面処理が可能です。

◆JP-5000による高速フレーム(HVOF)溶射の特徴

・爆発性のない液体燃料を使用することによる高圧燃焼を可能にしたことで、皮膜の高密着性と低酸化物含有の皮膜を
 実現できることです。
・燃焼室の圧力が制御できるので、皮膜の硬度を幅広く調整できます。
 そのため、ワーク(加工物)の使用条件に応じた皮膜特性を得ることができます。
・基材の形状によって異なりますが、10mm以上の加工も可能です。
・カーバイト系の材料は1mm~4mmまでの皮膜形成が可能です。

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